半導體製程怎麼命名比較好？Intel：遵照摩爾定律走就對了

一般來說，半導體製程的命名邏輯是製程越低就越先進，但就因為這個先入為主的刻板印象，讓有些晶圓廠喜歡在製程的命名上大做文章。Intel對此提出了自己的觀點，表示在導入FinFET之後，靠電晶體密度來命名更能反映真實情況。

製程節點與半導體尺寸脫節

大家常常拿Intel的製程開玩笑，說如果你想得知今年是西元幾年的話，千萬別問現在Intel的製程是多少，因為答案一定是14nm。不過隨著代號為Tiger Lake的第11代Core處理器推出，Intel也正式進入10nm世代。

為了要讓大家更瞭解製程推進背後的含意，Intel在台灣架構日活動中，邀請新竹辦公室總經理謝承儒為大家解說Intel製程的命名邏輯。

在過往製程的命名方式是依據電晶體的閘極長度（Gate Length）而定，這個數據某種程度能代表電晶體的實際尺寸。當電晶體尺寸越小代表越省電，也可以在單位面積中塞入更多電晶體，讓晶片達到更高運算效能，但閘極長度縮小也代表更難控制電流的流動。

為了在固定的尺寸中增加閘極長度，加州大學伯克利分校胡正明教授於1998提出FinFET（鰭式場效電晶體）技術，透過立體結構的閘極在有限尺寸中延長閘極長度，Intel也於2011年完成商用實作。其概念可以參考下圖。

然而FinFET的閘極長度與電晶體的實際尺寸脫勾，導致使用傳統命名方式已經不能適切反映電晶體特性。

▲ 謝承儒在台灣架構日活動說明Intel製程的命名邏輯。

▲ 過去製程是以電晶體閘極長度命名，但隨著製程精進，這種命名方式已經無法反映電晶體特性。

▲ 圖中左方為傳統電晶體，中央為FinFET電晶體（閘極具有1組鰭片），右方為Intel新推出的Super FinFET電晶體（閘極具有多組鰭片）。

▲ 將圖片放大來看，可以看到傳統電晶體與FinFET電晶體中央的黃線部分即為閘極長度。在相同電晶體尺寸下FinFET電晶體立體結構讓閘極與源極可以有3個接觸面，而能延長長度。

摩爾定律不死，還在引領半導體業

由於原本製程的命名方式參考閘極長度，當閘極長度越小，代表著同樣面積的晶片可以裝入更多電晶體，於是Intel就決定FinFET結構的晶片中，以電晶體密度作為製程命名方式的依據。

假設前代晶片在長、寬各為1單位的尺寸中容納固定數量的電晶體，那麼在下代晶片中，在長、寬各為0.7單位尺寸（面積約為一半）裝入等量電晶體，就代表著電晶體密度成長2倍。

有趣的是，這種命名方式也呼應了Intel共同創辦人Gordon Moore所提出的摩爾定律（晶片上的電晶體數目每隔2年會增加1倍）。

從下方表格中可以看出，以90nm製程節點來看，下一代製程就是65nm（90 x 0.7 = 63，取近似的65），再下一代則為45 nm（65 x 0.7 = 45.5，以下依此類推），而各代間的電晶體密度成長幅度也與2倍接近，可以說發展趨勢與摩爾定律相當接近。

回顧Intel在2019年就正式推出10nm製程產品，Tiger Lake處理器則是將FinFET結構推升為Super FinFET，再次強化晶片的電氣特性，官方表示能夠在「不推進製程節點」的情況下帶來20%效能提升。而未來Intel也會導入Nanoribbon結構進一步增加閘極長度，以縮小電晶體尺寸並增加密度。

▲ Gordon Moore於1965年提出摩爾定律，至今仍準確預估晶片上的電晶體數目每隔2年會增加1倍的發展趨勢。

▲ 從Intel對於製程的命名方式來看，可以看出以電晶體密度成長1倍為進入下1個節點的依據，而下1個節點名稱的數值則為原本節點的0.7倍。（筆者注：14nm推進到10nm的年份好像不止2年。）

▲ Intel在2019年就推出10nm FinFET晶片，2020年雖然沒有推進製程節點，但導入Super FinFET結構強化效能表現約20%。

▲ 雖然許多其他晶圓廠有著「名稱更加響亮」的製程命名方式，但Intel仍可保持電晶體密度的優勢。

▲ Nanoribbon結構讓閘極的4面都能接觸源極，能夠強化電氣特性，有助於縮小電晶體尺寸。

摩爾定律先決的策略核心

Intel在台灣架構日的新聞稿指出，公司的發展策略仍圍繞摩爾定律，面對「微縮製程逐漸面臨到物理極限挑戰，摩爾定律是否不再適用？」這類市場疑問，Intel表示將持續深耕先進製程開發，並導入更多不同尖端技術，致力於家用、商用、高效能運算等不同市場推出最適合的產品，以實際行動破除市場疑慮。

由於台灣架構日的時間恰好是NVIDIA宣佈收購Arm的隔天，因此大家都對AI運算、超級電腦等業界重新洗牌的狀況感到好奇。筆者也對此提出疑問，雖然Intel一直在處理器（CPU）領域保持領導地位，但在繪圖處理器（GPU）領域卻始終走得跌跌撞撞，而NVIDIA原本就有著繪圖處理器技術領先，因此在AI運算方面有著極大優勢，現在聯合Arm之後，Intel該如何突破對手「打群架」的包圍。

Intel台灣分公司發言人鄭智成對此回應，以他在Intel工作20餘年的經驗來看，Intel在過確實在繪圖處理器部份落後對手許多，但這次推出的Xe繪圖處理器則是「玩真的」，而且已經可以在Tiger Lake中看到Xe LP實際應用，至於更高階的Xe HP，則可透過EMIB封裝技術將多組運算單元（Tile）核心整合於單一封裝中，提升AI運算等情境效能表現。

此外Intel也提出下列「6大創新支柱」

1. 製程與封裝（如Super FinFET、Nanoribbon、EMIB）
2. 各類處理器（XPU）架構（如CPU、GPU、FPGA）
3. 記憶體（如Rambo Cache、Optane、3D XPoint）
4. 互連架構（如Compute Express Link）
5. 安全性（如Intel Control–Flow Enforcement Technology）
6. 軟體（如oneAPI）

提供完整的硬體、軟體環境與生態系統，持續滿足市場上各類運算的需求，以維持自身的競爭力。

▲ 鄭智成充滿信心地表示Intel的Xe繪圖處理器將會在高效能運算市場中搶佔一席之地，目前已經獲得美國能源部阿貢國家實驗室（Argonne National Laboratory）的訂單，將於2021年末開始交付產品。